Prof. Dr. Boris Bittner
Persönliche Daten
Abteilung / Funktion / Ausstattung an der FHWS
- Studiengangsberatung
Einordnung in DFG Systematik der Fächer
- Optik, Quantenoptik, Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
- Mathematik
Forschungsaktivität
- Signal- und Bildverarbeitung (Fourieranalysis und Wavelets)
- numerische Mathematik (insbesondere echtzeitkritische Algorithmen)
- Stereolithographie
- Systems Engineering
- Mensch & Ökonomie
- Digitalisierung
- Smarte Produktion
Publikationen
u.a.
[1] B. Bittner, H. Walter, M. Rösch, Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility, CN102165371, DE102008042356, EP2329321, JP4988066, KR20110047250, TW201019041, US8203696, WO10034674, KR20140002078, US2014176924, KR101426123, KR102014101891, TW000201506555, US000009052609, TW00000I480669 (2010)
[2] B. Bittner, Projection exposure apparatus with optimized adjustment capability, DE102010041528, US2013250266, WO12041589 (2012)
[3] J. Zellner, B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, A. Schob, G. Rudolph, A. Gratzke, A. Moffat, Projection objective of a mcrolithographic projection exposure apparatus, WO13044936, TW201329645, US20140185024, KR20140089356 (2013)
[4] M. Weiß, N. Kerwien, M. Weiser, B. Bittner, N. Wabra, Chr. Schlichenmaier, W. Clauss, Reflective optical element for the EUV wavelength range, method for producing and correcting such an element, projection lens for microlithography comprising such an element, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens, DE102011084117, WO13050199, CN103858055, KR20140084012, EP2764407, US020140307308 (2013)
[5] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, R. Iliew, T. Schicketanz, T. Gruner, Projektionsobjektiv für EUV-Mikrolithographie, Folienelement und Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs mit Folienelement, DE102012202057, WO13117343, TW201337324, US20140347721 (2013)
[6] B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, R. Mack, System correction from long timescales, DE102012212758, WO14012643, KR102015032870, US20150160562 (2014)
[7] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, Method of operating a microlithographic projection apparatus, WO20150360002 (2015)
[8]